【摘 要】在硫酸鹽鍍銅溶液中在不同電壓下對TC4鈦合金進(jìn)行電鍍在TC4合金表面獲得銅鍍層,采用劃痕法檢測在不同電壓下制備的銅鍍層的結(jié)合力。結(jié)果顯示:電壓對TC4鈦合金電鍍鍍層的結(jié)合力有一定的影響。
【關(guān)鍵詞】TC4鈦合金;電鍍;電壓
【Abstract】Obtain copper layer by plating copper on TC4 alloy in different voltage. Text the binding between substrate and layer of different voltage. The results show:The voltage have some impact on coating adhesion.
【keywords】TC4 alloy;plating;voltage
前 言
TC4鈦合金以其高的比強(qiáng)度和有意的耐腐蝕性已經(jīng)在航天航空工業(yè)、石油化工、機(jī)械制造、生物工程、船舶行業(yè)等得到了廣泛的應(yīng)用。但TC4鈦合金抗粘連能力差, 磨擦過程中易粘連和磨損, 電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率低, 不易承受釬焊。這些都限制了它的應(yīng)用范圍。所以研究在鈦合金上進(jìn)行電鍍勢在必行。
1、實(shí)驗(yàn)
1.1實(shí)驗(yàn)材料:TC4鈦合金(Ti-6Al-4V),TC4含鈦(Ti) 余量鐵(Fe)≤0.30,碳(C)≤0.10,氮(N)≤0.05,氫(H)≤0.015,氧(O)≤0.20,(Al)5.5~6.8,釩(V)3.5~4.5。試樣大小為若干個(gè)20mm×20mm×5mm長方體。用1200#的砂紙打磨至表面光潔。然后用丙酮超聲波清洗10min。放在干燥皿中待用。
1.2實(shí)驗(yàn)過程:將以上試樣用去離子水洗后的試樣迅速放入酸洗液(40%氫氟酸10ml+70%硝酸30ml+水60ml)中,酸洗1~2min,取出水洗。
活化:將表面粗化的試樣用鐵絲懸掛,浸沒于活化液(40%氫氟酸35ml+添加劑85ml)中反應(yīng),十分鐘取出,式樣表面附著一層灰色沉積,水洗。
電鍍銅:將試樣分為四組,每組三個(gè)。將五組電壓分別為0.6V、1.0V、1.4V、1.8V在配方為五水硫酸銅150g、濃硫酸27ml、氯化鈉0.02g、去離子水1000ml、適量光亮劑的鍍液中下進(jìn)行電鍍十分鐘。取出進(jìn)行水洗風(fēng)干。
2、鍍層結(jié)合力的測試
通過刻劃法,在所鍍鍍層表面劃兩組相距三毫米的平行線正交,觀察形成的網(wǎng)格中鍍層脫落現(xiàn)象,宏觀表面形貌如下圖1所示。如圖a表示電壓為0.6V時(shí)鍍層刻劃的結(jié)果,網(wǎng)格中鍍層不起皮,結(jié)合力良好,但是較容易刻劃到基體,可能鍍層較薄。如圖b所示為鍍銅電壓為1.0V時(shí)刻劃后的鍍層宏觀形貌圖,由圖可知,刻劃網(wǎng)格中的鍍層未起皮,并且相比于0.6V時(shí)的鍍層刻劃,使勁刻也未刻到基體,表面結(jié)合力很好。如圖c為鍍銅電壓為1.4V時(shí)刻劃后的結(jié)果,刻劃網(wǎng)格內(nèi)的鍍層有起皮現(xiàn)象,但不是成片脫落,由此可知結(jié)合力不好。如圖d為鍍銅電壓為1.8V時(shí),刻劃后的鍍層宏觀形貌圖,由圖可看出,刻劃后的網(wǎng)格內(nèi)鍍層成片起皮,整片脫落,鍍層結(jié)合力很差。
根據(jù)不同電壓下獲得的銅鍍層厚度繪制出電壓與鍍層厚度的關(guān)系圖如圖2。
結(jié)論
1、在鈦合金TC4表面電鍍銅的過程中,鍍銅電壓的變化影響鍍層的表面形貌,隨著電壓增大,鍍層表面更光亮致密。
2、不同的鍍銅電壓影響膜基之間的結(jié)合力,電壓偏大或偏小都會(huì)影響膜基之間的結(jié)合力,本實(shí)驗(yàn)超過1.4V時(shí),膜基結(jié)合力變差。
3、在不同的鍍銅電壓條件下,膜層的厚度發(fā)生變化,本實(shí)驗(yàn)電壓在0.6V~1.0V范圍內(nèi),隨著電壓的增加,鍍層厚度增大。
【參考文獻(xiàn)】
[1]王一棟,周海暉,劉文樂,等.鈦合金新型鍍鎳工藝的研究[J].Electroplating&Pollution Control,2007,27(2):10-14.
[2]沈志超,謝發(fā)勤,吳向清,等.鈦合金銅鍍層的性能[J].中國表面工程,2012,25(5):45-49.
[3]孫志華,劉佑厚,張曉云,等.鈦合金的電鍍工藝述評[J].腐蝕與防護(hù),2005,26(11):493-496.
[4]吳申敏.鈦合金電鍍新工藝及其應(yīng)用[J].上海航天,1994(3):22-24.
[5]信世堡.鈦合金表面處理技術(shù)的新進(jìn)展(上)[J].表面工程資訊,2009(2):1-5.
[6]屠振密,朱永明,李寧,等.鈦及鈦合金表面金屬電沉積的預(yù)處理問題[J].中國表面工程,2010,23(2):24-29.
[7]孫志華,劉佑厚,張曉云,等.鈦合金鍍銅工藝研究[J].材料腐蝕與表面工程,1994:1068-1072.
[8]張景雙,李萌初等.鈦材表面生成“活性膜”的研究[J].電鍍與環(huán)保,1993,13(5):3-5.
[9]張宏祥,王為.電鍍工藝學(xué)[M].天津科學(xué)技術(shù)出版社,2002:130-153.
[10]付艷艷,宋月清,惠松驍.航空用鈦合金的研究與應(yīng)用進(jìn)展[J].稀有材料,2006,30(6):850-856.